在現代高端制造業與前沿科技發展進程中，鎳靶材憑借優異的物理化學性能，成為不可或缺的關鍵基礎材料。其應用橫跨傳統與新興領域，從半導體芯片、顯示面板的精密制造，到固態電池、...

集成電路用鈦靶材需達4N5（99.995%）以上純度，先進制程甚至要求5N級，嚴控雜質與氧含量以保障器件性能。其晶體結構需控制晶粒尺寸在30μm以下，通過(002)或(110)擇優取向實現濺射均...

以下是高純鈦靶在氫能儲運材料領域的系統性分析，結合材料特性、制造工藝與應用前沿，從多維度展開論述：一、核心參數與技術要求（1）高純鈦靶基礎參數指標要求范圍作用與意義純度≥9...

以下為鈦鋁合金靶材（TiAl）的綜合技術分析報告，系統涵蓋成分特性、制造工藝、應用案例及前沿趨勢：一、名義及化學成分鈦鋁合金靶材為Ti-Al二元合金，成分按原子百分比（at%）劃分，不同比...

鈦合金憑借高強度、低密度、優良耐腐蝕性與生物相容性等特性，在多領域備受青睞。早期受限于加工技術，應用拓展緩慢。3D 打印技術興起后，為鈦合金加工開辟新路徑，其能將鈦合金材...

20世紀80年代，格洛夫的研究成果為濺射技術的工業化大規模生產提供了重要的基礎[1]。70年來，人們逐漸開始接受和研究這一新興的科學技術。近15年來，隨著不斷改良和創新的濺射技...

1、前言鈦合金具有很高的強度質量比及耐蝕性，在航空產品中有廣泛的應用。鈦合金硬度低、耐磨性能差，對于有耐磨性能要求的軸類、桶類零件，需在鈦合金表面進行鍍鉻，以提高其表面...

鈦合金絲的表面處理與保養需根據材質類型、應用場景及性能需求綜合選擇：化學酸洗（HNO?/HF混合液）適用于純鈦、TC4等去氧化皮，但需注意氫脆風險；陽極氧化（15-60V電壓）可生成彩色耐...

近年來，隨著材料表面工程學的快速發展，越來越多的表面涂層技術不斷涌現，其中濺射鍍膜工藝因其具有沉積速率快、操控容易、穩定性高、可大面積成膜等特點，已經廣泛應用于五金裝飾...

凱澤金屬以表格和分類形式，從應用領域、性能要求、鍍層特性等維度，詳細對比鈦靶材與鉻靶材的應用：一、核心應用領域對比應用領域鈦靶材鉻靶材半導體制造銅互連阻擋層（Ti/TiN）、導...

一、鈦鋁靶的定義鈦鋁靶是由鈦（Ti）和鋁（Al）按特定原子比例組成的合金材料，主要用于物理氣相沉積（PVD）、磁控濺射等表面鍍膜工藝。根據成分和結構不同，可分為TiAl（γ-TiAl相）、Ti3Al（α2...

鋯靶的全面解析1. 生產工藝鋯靶的生產涉及高精度和嚴格的過程控制，主要步驟包括：原料提純：采用電子束熔煉或碘化法獲取高純度鋯（≥99.95%），確保低氣體含量（如氧、氮）。成型加工：通過...