TiZr鈦鋯合金靶

產品名稱：鋯靶材，鋯多弧靶 ，鋯塊牌號：R60702、R60704、R60705執(zhí)行標準：GB/T8769-2010用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè)... 【詳情】

產品名稱：純鋯靶材、鋯圓靶、鋯板靶、鋯管靶牌號：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生產工藝：熱軋+冷軋+表面清洗+機加形狀：板靶/圓靶/管靶應用行業(yè)：鋯具有熔點高，密度適... 【詳情】

TA1高純鈦靶管通過提純工藝在保留工業(yè)純鈦成本優(yōu)勢的同時，顯著提升了雜質控制水平與濺射效率，成為中端鍍膜市場的理想選擇。其性價比優(yōu)于4N5級靶管，且比TA2靶管更適合要求較高的耐磨與光學應用。選購時需嚴格把控純度、幾何精度及供應商的工藝成熟度，使用中需優(yōu)化濺射參數并定期維護... 【詳情】

鈦靶板（平面靶）憑借其大面積成膜能力與高純度特性，成為半導體、光學及工業(yè)涂層領域的核心材料。相較于鈦管靶，其邊緣損耗較高但兼容性更廣；與鈦合金靶相比，純度更高但需依賴復合背板提升散熱效率。選購時需嚴格把控純度、微觀結構及供應商工藝能力，使用中需優(yōu)化濺射參數與維護流程，以平衡鍍膜質量與成本效益... 【詳情】

TA1鈦靶管憑借其低成本、易加工和良好的耐腐蝕性，成為工業(yè)防腐與裝飾鍍層的經濟型選擇。相較于高純鈦靶管，其薄膜均勻性和耐溫性稍遜，但成本優(yōu)勢顯著；與TA2鈦靶管相比，雜質控制更優(yōu)，適合對鍍層質量要求稍高的場景。選購時需重點關注Fe、O雜質含量及幾何精度，應用中需控制濺射參數以避免膜層缺陷... 【詳情】

異形鈦靶材通過定制化設計解決了復雜結構鍍膜的行業(yè)痛點，盡管初期成本與周期較高，但其在材料利用率、鍍膜精度上的優(yōu)勢顯著。選購時需緊密協(xié)同設計與工藝團隊，優(yōu)先選擇具備增材制造與精密加工能力的供應商，并通過小批量試制驗證可行性。在半導體3D集成、航空航天高溫涂層等前沿領域... 【詳情】