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            表面涂層與防護用鉻靶材

            材質:工業純鉻、鉻合金

            執行標準: ASTM B481、ISO 4525、SEMI F72、GB/T 9797

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            發布日期: 2025-03-23 22:06:35

            全國熱線: 0917-3376170

            詳細描述 / Detailed description

            一、表面涂層與防護用鉻靶材的定義與核心特性

            分類詳細描述
            定義以高純度鉻或鉻合金制成的薄膜沉積材料,用于表面防護(耐磨、耐腐蝕)涂層的物理氣相沉積(PVD)或濺射鍍膜工藝
            材質類型- 工業純鉻:純度≥99.9%(低氧、低氮)
            - 鉻合金:Cr-Al(抗氧化)、Cr-Ni(耐高溫)、Cr-C(超硬涂層)
            性能特點① 高硬度(鍍層HV 800-2200)
            ② 耐腐蝕性(鹽霧測試>1000h)
            ③ 低摩擦系數(0.1-0.3)
            ④ 高溫穩定性(鍍膜溫度≤800℃)
            執行標準- 國際:ASTM B481(鉻鍍層)、ISO 4525(硬鉻電鍍)
            - 鍍膜專用:SEMI F72(半導體靶材)
            - 國內:GB/T 9797(金屬覆蓋層)

            二、鉻靶材關鍵性能參數對比(與其他金屬靶材)

            性能指標鉻靶材鎢靶材鉬靶材不銹鋼靶材鈦靶材
            密度 (g/cm3)7.1919.310.27.94.51
            熔點 (°C)19073422262314501668
            硬度(HV)800-2200(鍍層)400-600200-300150-250200-350
            耐鹽霧腐蝕(h)>1000300500200800
            成本系數(以鉻為1)14.52.80.51.2

            三、鉻靶材制造工藝與關鍵技術

            工藝環節關鍵技術效果/指標
            高純提純電解精煉(電流密度300-500A/m2)純度≥99.99%,硫含量≤0.001%
            熱等靜壓成型HIP工藝(1200℃/100MPa,氬氣保護)靶材致密度≥99.8%,無氣孔缺陷
            表面處理電解拋光(電壓12V,磷酸基電解液)表面粗糙度Ra≤0.02μm,鏡面光澤度>95%
            綁定技術釬焊(Ag-Cu-Ti焊料,真空爐)背板結合強度≥150MPa,熱循環穩定性>500次
            鍍層控制磁控濺射(功率密度5-10W/cm2,氬氣流量20sccm)膜厚均勻性±2%,沉積速率≥50nm/min

            四、加工流程與質量控制

            工序設備/方法關鍵控制點
            1. 原料精煉電解槽(Cr3+→Cr?)雜質總量≤100ppm(Fe、Ni、Cu)
            2. 熔煉鑄造真空感應熔煉(1600℃)氧含量≤0.02%,晶粒尺寸≤50μm
            3. 軋制加工熱軋(1100℃)+冷軋(變形量70%)厚度公差±0.05mm,織構取向(110)
            4. 熱處理氫氣退火(800℃×4h)消除內應力,硬度HV 150-200
            5. 檢測認證XRF成分分析+SEM微觀觀察成分偏差≤0.5%,無微裂紋、夾雜

            五、具體應用領域與技術需求

            應用領域功能需求技術規格代表產品
            航空航天發動機葉片耐磨涂層鍍層厚度10-50μm,耐溫>800℃Cr-Al合金靶材(Φ300mm)
            汽車工業活塞環減摩鍍層摩擦系數≤0.15,磨損率<1×10?? mm3/N·m高純鉻靶材(99.99%)
            刀具涂層硬質合金刀具超硬鍍層硬度HV≥2000,結合力≥50NCr-C靶材(納米晶)
            電子產品電磁屏蔽鍍層電阻率≤5μΩ·cm,厚度0.1-1μmCr-Ni合金靶材
            海洋工程海水腐蝕防護耐Cl?滲透(<0.1mg/cm2·day)Cr-Mo合金靶材

            六、未來發展方向與創新路徑

            新興領域技術挑戰創新路徑預期效益
            納米多層涂層界面結合力與應力控制CrN/TiAlN交替沉積(周期≤10nm)硬度提升至HV3000+
            環保無電鍍鉻替代六價鉻工藝(RoHS合規)三價鉻PVD靶材開發毒性降低90%
            柔性顯示鍍膜低溫沉積(≤150℃)不脆裂非晶鉻靶材(添加B、Si)彎折半徑<1mm
            核反應堆抗輻射損傷(>101? n/cm2)Cr-Zr合金靶材(Zr 5%-8%)壽命延長至20年
            增材修復局部損傷原位鍍層修復微區激光濺射(光斑≤50μm)修復精度±5μm

            七、選購指南及技巧

            選購維度技術要點推薦策略
            應用匹配- 耐磨涂層:選Cr-C合金根據鍍膜設備腔體尺寸選擇靶材直徑(匹配利用率)
            - 防腐:選Cr-Mo合金
            純度驗證要求提供GDMS報告(Fe、Ni、Cu≤10ppm)優先選擇真空熔煉+電子束精煉工藝
            微觀結構等軸晶占比>85%(SEM檢測)避免柱狀晶導致的鍍層開裂
            綁定質量背板熱導率≥200W/m·K(銅或鉬背板)選擇擴散焊或爆炸焊接工藝
            成本優化厚度≥15mm可翻面使用(壽命提升40%)批量采購時協商舊靶材回收折扣

            總結

            表面涂層與防護用鉻靶材以超高硬度、耐極端磨損、優異結合力為核心優勢,在航空航天、精密工具等領域不可替代。未來技術將向納米復合鍍層、環保工藝替代及柔性低溫沉積三大方向突破,結合智能化鍍膜控制(如等離子體監測閉環系統),推動涂層性能跨越式提升。選購時需重點核查純度證書(GDMS)、晶粒結構(EBSD)及綁定界面質量(超聲波檢測),優先選擇具備IATF 16949認證的汽車級供應商。

            產品相冊 / Product album
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