濺射鍍膜就是最近發(fā)展起來(lái)的一種新的表面處理技術(shù)。表面處理技術(shù)能使材料的物理機(jī)械和化學(xué)性能得到提高,而濺射鍍膜比以往的真空鍍膜具有“高速、低溫”兩個(gè)顯著的特點(diǎn)。
靶材形狀:板材,圓片,矩形,方形,圓環(huán),圓棒,臺(tái)階圓片,臺(tái)階矩形,三角形,管狀靶,套靶等或按客戶(hù)要求訂做,可根據(jù)客戶(hù)提供的圖紙要求加工,并可以為客戶(hù)提供部分靶材的綁定服務(wù)。
參考尺寸:直徑≤3556mm(14英寸),長(zhǎng)度≤1000mm,寬度≤200mm,厚度≤20mm
濺射工藝有哪幾種?
濺射工藝主要用于濺射刻蝕和薄膜淀積兩個(gè)方面。
淀積薄膜時(shí),濺射源置于靶極,受氬離子轟擊后發(fā)生濺射。如果靶材是單質(zhì)的,則在襯底上生成靶極物質(zhì)的單質(zhì)薄膜,若在濺射室內(nèi)有意識(shí)地引入反應(yīng)氣體,使之與濺出的靶材原子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而淀積于襯底,便可形成靶極材料的化合物薄膜,通常,制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接進(jìn)行濺射而得。
濺射刻蝕時(shí),被刻蝕的材料置于靶極位置,受氬離子的轟擊進(jìn)行刻蝕。刻蝕速率與靶極材料的濺射產(chǎn)額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關(guān)。濺射刻蝕時(shí),應(yīng)盡可能從濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應(yīng)氣體,使之與濺出的靶極原子反應(yīng)生成揮發(fā)性氣體,通過(guò)真空系統(tǒng)從濺射室中排出。
相關(guān)鏈接
