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            • 平面光學(xué)裝飾鍍膜用鈦管靶
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            平面光學(xué)裝飾鍍膜用鈦管靶

            材質(zhì):TA1(Grade1)、TA2Grade2

            執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn): ASTM B338、GB/T 3625

            瀏覽次數(shù):

            發(fā)布日期: 2023-01-30 21:31:47

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            詳細(xì)描述 / Detailed description

            1、鈦管靶

            鍍膜用鈦管靶是一種空心圓柱形的高純度鈦材料,專(zhuān)為磁控濺射(尤其是旋轉(zhuǎn)濺射工藝)設(shè)計(jì),通過(guò)離子轟擊鈦管表面濺射出鈦原子或離子,在基材表面形成功能性薄膜(如導(dǎo)電層、阻擋層或裝飾層)。其結(jié)構(gòu)特點(diǎn)可實(shí)現(xiàn) 360°濺射,顯著提高靶材利用率(可達(dá)70%以上),適用于大面積連續(xù)鍍膜場(chǎng)景。

            2、性能特點(diǎn)

            高純度:純度≥99.95%(3N5級(jí)及以上),雜質(zhì)(Fe、O、C等)嚴(yán)格控制在ppm級(jí),確保薄膜性能穩(wěn)定。

            高密度:≥4.5 g/cm3,減少濺射顆粒飛濺,降低膜層缺陷。

            熱傳導(dǎo)性:鈦的低熱膨脹系數(shù)(8.6×10??/K)和良好導(dǎo)熱性(21.9 W/m·K),適合長(zhǎng)時(shí)間高溫濺射。

            結(jié)構(gòu)優(yōu)勢(shì):空心管狀設(shè)計(jì)配合旋轉(zhuǎn)濺射,膜厚均勻性(±3%以?xún)?nèi))優(yōu)于靜態(tài)板靶。

            耐腐蝕性:鈦的鈍化膜(TiO?)使其在酸堿環(huán)境中長(zhǎng)期穩(wěn)定。

            3、材質(zhì)與制造工藝

            材質(zhì):

            高純鈦(ASTM Grade 1或2),純度等級(jí):3N5(99.95%)至5N(99.999%)。

            特殊需求時(shí)內(nèi)壁復(fù)合背板材料(如銅、鋁)以增強(qiáng)散熱。

            制造工藝:

            原料提純:電子束熔煉(EBM)或真空電弧熔煉(VAR),去除揮發(fā)性雜質(zhì)。

            塑性成型:熱擠壓→旋壓→冷軋,形成管狀坯體。

            焊接密封:采用真空電子束焊接(EBW)封閉管端,避免濺射時(shí)氣體泄漏。

            表面處理:內(nèi)外壁精密拋光(Ra≤0.6 μm)→超聲波清洗→真空封裝。

            4、執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)

            標(biāo)準(zhǔn)類(lèi)型具體標(biāo)準(zhǔn)
            國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ASTM B338(鈦及鈦合金無(wú)縫管)、SEMI F47(半導(dǎo)體靶材通用規(guī)范)
            國(guó)內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)GB/T 3625(鈦及鈦合金管材)、SJ/T 11609-2016(平板顯示用濺射靶材技術(shù)規(guī)范)
            行業(yè)定制顯示面板廠(chǎng)商對(duì)管靶壁厚公差(如±0.1 mm)及同心度(≤0.05 mm)的特殊要求

            5、應(yīng)用領(lǐng)域

            半導(dǎo)體制造:銅互連阻擋層(Ti/TiN)、ALD/CVD前驅(qū)體薄膜。

            平面顯示:TFT-LCD陣列的銅擴(kuò)散阻擋層、OLED陽(yáng)極附著層。

            光學(xué)鍍膜:望遠(yuǎn)鏡鏡面反射層、手機(jī)攝像頭濾光片。

            裝飾鍍膜:智能手表表殼的氮化鈦(TiN)仿金涂層。

            新能源:燃料電池雙極板防腐蝕鍍層、光伏電池電極。

            6、鈦管靶、鈦板靶、鈦靶塊的異同對(duì)比

            特性鈦管靶鈦板靶鈦靶塊
            形狀空心圓柱體(壁厚3-10 mm)平面矩形/圓形板狀實(shí)心長(zhǎng)方體/異形塊體
            濺射方式旋轉(zhuǎn)濺射(動(dòng)態(tài)利用率高)靜態(tài)磁控濺射(邊緣易損耗)局部濺射(適用小面積鍍膜)
            均勻性膜厚波動(dòng)≤±3%(旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)性?xún)?yōu))邊緣膜厚偏差可達(dá)±8%需多次調(diào)整濺射參數(shù)
            加工難度高(需精密焊接與同心度控制)中(大尺寸軋制技術(shù))低(機(jī)加工靈活)
            成本中高(材料利用率70%)高(利用率僅30-40%)低(小批量定制經(jīng)濟(jì))
            適用場(chǎng)景連續(xù)生產(chǎn)的大面積鍍膜(如G10.5代線(xiàn))中小尺寸設(shè)備(如G6代線(xiàn))實(shí)驗(yàn)室研發(fā)或特殊形狀鍍膜

            7、選購(gòu)方法與注意事項(xiàng)

            1)選購(gòu)方法

            純度與雜質(zhì)檢測(cè):

            要求 GDMS報(bào)告,重點(diǎn)核查Fe(≤50 ppm)、O(≤300 ppm)、C(≤100 ppm)含量。

            驗(yàn)證晶粒尺寸(SEM圖像分析,目標(biāo)≤50 μm)。

            幾何精度驗(yàn)證:

            管靶壁厚公差(±0.1 mm)、同心度(≤0.05 mm)、直線(xiàn)度(≤0.1 mm/m)。

            供應(yīng)商評(píng)估:

            優(yōu)先選擇具備 EBM熔煉+電子束焊接 技術(shù)的廠(chǎng)商,確保管靶致密無(wú)氣孔。

            查看歷史案例(如是否供應(yīng)京東方、三星等頭部面板廠(chǎng)商)。

            性?xún)r(jià)比分析:

            計(jì)算單位鍍膜面積的靶材成本(元/㎡),對(duì)比不同純度等級(jí)(4N vs. 5N)的性?xún)r(jià)比。

            2)注意事項(xiàng)

            儲(chǔ)存與運(yùn)輸:

            真空充氬包裝,避免管靶內(nèi)壁氧化(儲(chǔ)存濕度<30% RH)。

            運(yùn)輸時(shí)使用定制支架固定,防止管體變形或端面磕碰。

            安裝與使用:

            安裝前用無(wú)水乙醇擦拭內(nèi)壁,確保冷卻水路無(wú)雜質(zhì)堵塞。

            初始濺射功率需階梯式遞增(如從5 W/cm2逐步升至15 W/cm2),避免熱應(yīng)力開(kāi)裂。

            維護(hù)與報(bào)廢:

            定期檢查管靶壁厚(剩余厚度<1 mm時(shí)需更換)。

            報(bào)廢鈦管靶可回收重熔,但需檢測(cè)二次熔煉后的雜質(zhì)累積情況。

            鍍膜用鈦管靶憑借其高利用率、優(yōu)異膜厚均勻性和旋轉(zhuǎn)濺射適應(yīng)性,成為大面積連續(xù)鍍膜的核心材料。相較于鈦板靶和靶塊,鈦管靶在量產(chǎn)效率和成本控制上更具優(yōu)勢(shì),但對(duì)加工精度(如焊接密封性、幾何公差)要求嚴(yán)苛。選購(gòu)時(shí)需重點(diǎn)把控純度、微觀(guān)結(jié)構(gòu)及供應(yīng)商的工藝能力,使用中需優(yōu)化濺射參數(shù)與維護(hù)流程,以延長(zhǎng)靶材壽命并保障鍍膜質(zhì)量。

            產(chǎn)品相冊(cè) / Product album
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            寶雞市凱澤金屬材料有限公司
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