TA1鈦板靶

TA2高純鈦靶通過提純工藝在保留工業(yè)純鈦成本優(yōu)勢的同時，提升了純度與濺射性能，成為中端工業(yè)涂層的理想選擇。其性價比顯著高于4N5級高純鈦靶，但薄膜性能（如電阻率、耐高溫性）略遜于后者。選購時需重點把控Fe、O雜質(zhì)含量及晶粒均勻性，應(yīng)用中需優(yōu)化濺射氣體比例與基片溫度。對于要求嚴苛的半導(dǎo)體或光學(xué)鍍膜，仍需選用4N5級以上靶材；而在工具強化、通用防腐領(lǐng)域... 【詳情】

TA1高純鈦靶管通過提純工藝在保留工業(yè)純鈦成本優(yōu)勢的同時，顯著提升了雜質(zhì)控制水平與濺射效率，成為中端鍍膜市場的理想選擇。其性價比優(yōu)于4N5級靶管，且比TA2靶管更適合要求較高的耐磨與光學(xué)應(yīng)用。選購時需嚴格把控純度、幾何精度及供應(yīng)商的工藝成熟度，使用中需優(yōu)化濺射參數(shù)并定期維護... 【詳情】

鈦靶板（平面靶）憑借其大面積成膜能力與高純度特性，成為半導(dǎo)體、光學(xué)及工業(yè)涂層領(lǐng)域的核心材料。相較于鈦管靶，其邊緣損耗較高但兼容性更廣；與鈦合金靶相比，純度更高但需依賴復(fù)合背板提升散熱效率。選購時需嚴格把控純度、微觀結(jié)構(gòu)及供應(yīng)商工藝能力，使用中需優(yōu)化濺射參數(shù)與維護流程，以平衡鍍膜質(zhì)量與成本效益... 【詳情】

TA1鈦靶管憑借其低成本、易加工和良好的耐腐蝕性，成為工業(yè)防腐與裝飾鍍層的經(jīng)濟型選擇。相較于高純鈦靶管，其薄膜均勻性和耐溫性稍遜，但成本優(yōu)勢顯著；與TA2鈦靶管相比，雜質(zhì)控制更優(yōu)，適合對鍍層質(zhì)量要求稍高的場景。選購時需重點關(guān)注Fe、O雜質(zhì)含量及幾何精度，應(yīng)用中需控制濺射參數(shù)以避免膜層缺陷... 【詳情】

異形鈦靶材通過定制化設(shè)計解決了復(fù)雜結(jié)構(gòu)鍍膜的行業(yè)痛點，盡管初期成本與周期較高，但其在材料利用率、鍍膜精度上的優(yōu)勢顯著。選購時需緊密協(xié)同設(shè)計與工藝團隊，優(yōu)先選擇具備增材制造與精密加工能力的供應(yīng)商，并通過小批量試制驗證可行性。在半導(dǎo)體3D集成、航空航天高溫涂層等前沿領(lǐng)域... 【詳情】

高純鈦靶指純度≥ 99.95%（3N5級） 的鈦濺射靶材，雜質(zhì)總量≤ 500 ppm，關(guān)鍵元素（Fe、O、C等）需精確控制。根據(jù)應(yīng)用需求，純度可提升至 99.999%（5N級），主要用于對薄膜性能要求嚴苛的半導(dǎo)體、光學(xué)及新能源領(lǐng)域... 【詳情】