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            鈦靶


            新能源用鈦靶材

            新能源用鈦靶材

            新能源用鈦靶材是用于薄膜沉積的高純度鈦或鈦合金材料(純度≥99.99%?),遵循半導(dǎo)體級(jí)制造標(biāo)準(zhǔn)?,主要應(yīng)用于太陽(yáng)能電池透明導(dǎo)電層?、儲(chǔ)能設(shè)備電極?及顯示技術(shù)光電轉(zhuǎn)換膜?等領(lǐng)域。... 【詳情】
            光學(xué)涂層用鈦靶材

            光學(xué)涂層用鈦靶材

            光學(xué)級(jí)鈦靶材是高端鍍膜的核心材料,其性能直接影響光學(xué)系統(tǒng)的能量損耗(每0.1%雜質(zhì)增加約2%的散射損失)。在半導(dǎo)體和顯示領(lǐng)域靶材趨向大尺寸化(如G10.5代線需4m長(zhǎng)靶)的背景下,光學(xué)靶材更聚焦于微觀結(jié)構(gòu)控制,需結(jié)合XRD(X射線衍射)進(jìn)行擇優(yōu)取向分析,確保(002)晶面占比>70%,以實(shí)現(xiàn)最優(yōu)膜層生長(zhǎng)... 【詳情】
            鈦管靶

            鈦管靶

            鈦管靶憑借其高材料利用率和均勻鍍膜特性,在顯示面板(如G10.5代線需Φ450×2500mm靶管)和光伏領(lǐng)域占據(jù)主導(dǎo)地位。相比鈦板靶,其采購(gòu)成本高約30%,但綜合鍍膜效率提升50%以上。特殊應(yīng)用(如EUV鍍膜)需選擇單晶鈦管靶(晶向偏差<1°),并配合... 【詳情】
            真空鍍膜用鈦靶材

            真空鍍膜用鈦靶材

            鈦靶材因其優(yōu)異的綜合性能(性?xún)r(jià)比、成膜質(zhì)量、工藝適應(yīng)性),占據(jù)真空鍍膜靶材市場(chǎng)約35%的份額(2023年數(shù)據(jù))。相較于鉭、鈮等稀有金屬靶材,鈦靶的濺射速率快20-50%,且成本僅為1/3-1/5。在精密光學(xué)鍍膜中,需選用EBM工藝制備的(002)擇優(yōu)取向靶材,配合離子束輔助沉積(IBAD),可將膜層表面粗糙度控制在0.5 nm以下,滿足激光陀螺儀等超精密器件的需求。... 【詳情】
            涂層鍍膜用鈦靶管

            涂層鍍膜用鈦靶管

            鈦靶管憑借高材料利用率與鍍膜均勻性,在顯示面板(如8K OLED)和光伏領(lǐng)域占據(jù)主導(dǎo)地位。相較于鎳靶管,其成本高3-4倍,但耐高溫性?xún)?yōu)異(Ti熔點(diǎn)比Ni高213℃),適用于硬質(zhì)涂層;對(duì)比鋯靶管,鈦靶管的濺射速率快20%,且成本僅為1/3。在采購(gòu)時(shí)需重點(diǎn)關(guān)注 晶粒取向控制 與 雜質(zhì)元素溯源... 【詳情】
            圓柱鈦靶材

            圓柱鈦靶材

            圓柱鈦靶材憑借其高致密性與工藝適應(yīng)性,在半導(dǎo)體(如5 nm節(jié)點(diǎn)TiN阻擋層)和超精密光學(xué)領(lǐng)域不可替代。相較于鈦管靶,其材料利用率低約20%,但更適合小尺寸高精度鍍膜(如Φ200 mm晶圓);對(duì)比鎳靶塊,鈦靶的耐高溫性(熔點(diǎn)高213℃)和膜層硬度(TiN硬度達(dá)2000 HV)優(yōu)勢(shì)顯著。在高端應(yīng)用中,需選擇HIP工藝制備的納米晶靶材... 【詳情】
            裝飾用99.95%純鈦靶

            裝飾用99.95%純鈦靶

            1、高純鈦靶裝飾用純鈦靶是一種用于物理氣相沉積(PVD)工藝的高純度鈦材料,通常以塊狀或板狀形式存在。在真空環(huán)境下通過(guò)濺射形成薄膜,賦予基材金屬光澤、耐磨、耐腐蝕等裝飾性功... 【詳情】
            平面顯示用鈦靶

            平面顯示用鈦靶

            平面顯示用鈦靶是高端顯示面板制造的核心材料,其超純、高密度和微觀均勻性要求遠(yuǎn)高于裝飾用鈦靶。選購(gòu)時(shí)需重點(diǎn)關(guān)注雜質(zhì)控制、晶粒細(xì)化工藝及供應(yīng)商的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。相較于鈦管靶和靶塊,鈦板靶在大面積鍍膜中更具優(yōu)勢(shì)但成本較高,需根據(jù)設(shè)備類(lèi)型和工藝需求靈活選擇。使用中需嚴(yán)格遵循低氧操作規(guī)范... 【詳情】
            半導(dǎo)體新能源醫(yī)療用純鈦靶

            半導(dǎo)體新能源醫(yī)療用純鈦靶

            1、定義純鈦靶是以鈦金屬為主要成分,純度通常在 99.95%(3N5級(jí))以上 的濺射靶材,用于物理氣相沉積(PVD)或化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝,通過(guò)濺射或蒸發(fā)在基材表面形成功能性薄膜。其核心用途... 【詳情】
            平面光學(xué)裝飾鍍膜用鈦管靶

            平面光學(xué)裝飾鍍膜用鈦管靶

            鍍膜用鈦管靶憑借其高利用率、優(yōu)異膜厚均勻性和旋轉(zhuǎn)濺射適應(yīng)性,成為大面積連續(xù)鍍膜的核心材料。相較于鈦板靶和靶塊,鈦管靶在量產(chǎn)效率和成本控制上更具優(yōu)勢(shì),但對(duì)加工精度(如焊接密封性、幾何公差)要求嚴(yán)苛。選購(gòu)時(shí)需重點(diǎn)把控純度、微觀結(jié)構(gòu)及供應(yīng)商的工藝能力,使用中需優(yōu)化濺射參數(shù)與維護(hù)流程,以延長(zhǎng)靶材壽命并保障鍍膜質(zhì)量... 【詳情】
            工業(yè)涂層用鈦圓柱靶

            工業(yè)涂層用鈦圓柱靶

            工業(yè)涂層用鈦圓柱靶憑借其高純度、優(yōu)異熱管理能力和適配多種復(fù)合涂層的靈活性,成為機(jī)械強(qiáng)化領(lǐng)域的核心材料。相較于純鉻靶,其耐磨性更優(yōu);相較于碳化鎢靶,成本顯著降低且工藝兼容性更廣。選購(gòu)時(shí)需根據(jù)具體涂層類(lèi)型(如TiN、TiAlN)選擇靶材純度與復(fù)合結(jié)構(gòu),并嚴(yán)格驗(yàn)證微觀均勻性。使用中需優(yōu)化濺射氣體比例與基片溫度... 【詳情】
            TA2純鈦靶

            TA2純鈦靶

            1、定義TA2純鈦靶是以中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn) GB/T 3620.1 中的 TA2(工業(yè)純鈦) 為基礎(chǔ)材料,通過(guò)特殊提純工藝加工而成的濺射靶材。TA2鈦的純度通常為 99.2%-99.5%,但通過(guò)二次熔煉和精煉可... 【詳情】
            裝飾鍍膜用純鈦靶管

            裝飾鍍膜用純鈦靶管

            1、定義TA1純鈦靶管是以中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn) GB/T 3620.1 中的 TA1(工業(yè)純鈦) 為基礎(chǔ)材料,通過(guò)二次提純和精密加工制成的空心圓柱形濺射靶材。其純度通過(guò)特殊工藝提升 99.9%(3N級(jí)) 以上,... 【詳情】
            鈦靶板(鈦平面靶)

            鈦靶板(鈦平面靶)

            鈦靶板(平面靶)憑借其大面積成膜能力與高純度特性,成為半導(dǎo)體、光學(xué)及工業(yè)涂層領(lǐng)域的核心材料。相較于鈦管靶,其邊緣損耗較高但兼容性更廣;與鈦合金靶相比,純度更高但需依賴(lài)復(fù)合背板提升散熱效率。選購(gòu)時(shí)需嚴(yán)格把控純度、微觀結(jié)構(gòu)及供應(yīng)商工藝能力,使用中需優(yōu)化濺射參數(shù)與維護(hù)流程,以平衡鍍膜質(zhì)量與成本效益... 【詳情】
            工具涂層用鈦圓柱靶

            工具涂層用鈦圓柱靶

            TA1鈦圓柱靶通過(guò)提純工藝在保留工業(yè)純鈦成本優(yōu)勢(shì)的同時(shí),顯著提升了純度與濺射性能,成為中端工業(yè)涂層的理想選擇。其性?xún)r(jià)比優(yōu)于4N5級(jí)高純鈦靶,且比TA2鈦靶更適合要求較高的耐磨與防腐應(yīng)用。選購(gòu)時(shí)需嚴(yán)格把控Fe、O雜質(zhì)含量及晶粒均勻性,應(yīng)用中需優(yōu)化濺射氣體比例與基片溫度。對(duì)于高精密半導(dǎo)體或光學(xué)鍍膜... 【詳情】
            工業(yè)防腐涂層用鈦靶管

            工業(yè)防腐涂層用鈦靶管

            TA1鈦靶管憑借其低成本、易加工和良好的耐腐蝕性,成為工業(yè)防腐與裝飾鍍層的經(jīng)濟(jì)型選擇。相較于高純鈦靶管,其薄膜均勻性和耐溫性稍遜,但成本優(yōu)勢(shì)顯著;與TA2鈦靶管相比,雜質(zhì)控制更優(yōu),適合對(duì)鍍層質(zhì)量要求稍高的場(chǎng)景。選購(gòu)時(shí)需重點(diǎn)關(guān)注Fe、O雜質(zhì)含量及幾何精度,應(yīng)用中需控制濺射參數(shù)以避免膜層缺陷... 【詳情】
            裝飾鍍層用鈦多弧靶

            裝飾鍍層用鈦多弧靶

            TA1鈦多弧靶憑借其高利用率、低成本及適配多弧工藝的特性,成為工業(yè)工具涂層與防腐鍍層的經(jīng)濟(jì)型選擇。相較于磁控濺射靶,其薄膜更致密但需后處理液滴;相較于高純鈦靶,雖雜質(zhì)較多但成本優(yōu)勢(shì)顯著。選購(gòu)時(shí)需重點(diǎn)關(guān)注雜質(zhì)含量與晶粒均勻性,使用中需優(yōu)化電弧參數(shù)與基片偏壓。對(duì)于高端精密涂層... 【詳情】
            功能性薄膜用鈦平面靶

            功能性薄膜用鈦平面靶

            TA1鈦平面靶憑借其低成本、易加工及適中的性能,成為工業(yè)防腐與裝飾鍍層的經(jīng)濟(jì)型選擇。其純度雖不及高純鈦靶,但通過(guò)工藝優(yōu)化(如磁場(chǎng)設(shè)計(jì)、濺射參數(shù)調(diào)整)可滿足一般工業(yè)需求。選購(gòu)時(shí)需重點(diǎn)關(guān)注雜質(zhì)含量與幾何精度,應(yīng)用中需控制氧污染并定期維護(hù)。對(duì)于精密半導(dǎo)體或光學(xué)鍍膜,建議選用高純鈦靶;而在防腐、裝飾... 【詳情】
            異形鈦靶材

            異形鈦靶材

            異形鈦靶材通過(guò)定制化設(shè)計(jì)解決了復(fù)雜結(jié)構(gòu)鍍膜的行業(yè)痛點(diǎn),盡管初期成本與周期較高,但其在材料利用率、鍍膜精度上的優(yōu)勢(shì)顯著。選購(gòu)時(shí)需緊密協(xié)同設(shè)計(jì)與工藝團(tuán)隊(duì),優(yōu)先選擇具備增材制造與精密加工能力的供應(yīng)商,并通過(guò)小批量試制驗(yàn)證可行性。在半導(dǎo)體3D集成、航空航天高溫涂層等前沿領(lǐng)域... 【詳情】
            純鈦靶

            純鈦靶

            1、高純鈦靶純鈦靶指純度≥ 99.95%(3N5級(jí)) 的鈦濺射靶材,雜質(zhì)總量≤ 500 ppm,關(guān)鍵元素(Fe、O、C等)需精確控制。根據(jù)應(yīng)用需求,純度可提升至 99.999%(5N級(jí)),主要用于對(duì)薄膜性能要求嚴(yán)苛... 【詳情】
            新能源用鈦靶材

            新能源用鈦靶材

            新能源用鈦靶材是高性能薄膜制備的核心材料,需根據(jù)具體應(yīng)用場(chǎng)景(如耐腐蝕、導(dǎo)電性、輕量化)選擇材質(zhì)與規(guī)格。采購(gòu)時(shí)需綜合考量純度、供應(yīng)商資質(zhì)及成本效益,并在使用中嚴(yán)格控制工藝參數(shù)與維護(hù)條件,以確保薄膜性能與設(shè)備壽命
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            固態(tài)電池用鈦靶材

            固態(tài)電池用鈦靶材

            固態(tài)電池用鈦靶材是一種通過(guò)物理氣相沉積(PVD)技術(shù)(如磁控濺射)制備超薄鈦金屬層的高純度材料,主要用于固態(tài)電解質(zhì)與電極界面層,通過(guò)抑制鋰枝晶生長(zhǎng)、提升離子傳輸效率和界面穩(wěn)定性,解決固態(tài)電池循環(huán)壽命短的核心痛點(diǎn)... 【詳情】
            清潔建筑玻璃用鈦靶材

            清潔建筑玻璃用鈦靶材

            清潔建筑玻璃用鈦靶材是通過(guò)磁控濺射或反應(yīng)濺射工藝,在玻璃表面沉積二氧化鈦(TiO?)或氮摻雜TiO?薄膜的功能性材料。其核心作用在于賦予玻璃自清潔、光催化分解污染物、抗反射及抗菌等特性,通過(guò)光催化反應(yīng)分解表面有機(jī)物污染物,減少人工清潔頻率,提升建筑環(huán)保性與美觀性... 【詳情】
            集成電路用鈦靶材

            集成電路用鈦靶材

            集成電路(IC)用鈦靶材是通過(guò)物理氣相沉積(PVD)工藝(如磁控濺射、離子鍍)在硅基芯片表面沉積鈦薄膜的高純度材料,主要用于導(dǎo)電粘附層、擴(kuò)散阻擋層及接觸孔填充。其核心作用... 【詳情】
            鈦平面靶

            鈦平面靶

            產(chǎn)品名稱(chēng):鈦板靶、鈦平面靶、鈦靶板品名:鈦合金靶板牌號(hào):TC4 產(chǎn)地:寶雞 主要型式:圓靶/板靶/管靶牌號(hào):TA1,TA2,TC4 圓靶:60/65/70/80/85/90/95/100(D)×20/30/32/35/40/4... 【詳情】
            鈦旋轉(zhuǎn)靶

            鈦旋轉(zhuǎn)靶

            產(chǎn)品名稱(chēng):鈦靶材、鈦多弧靶, 鈦靶塊,鈦塊牌號(hào):TA0,TA1,TA2,GR1,GR2執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):GB/T2695-1996,ASTM B348-97用途:用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂... 【詳情】
            鈦管靶

            鈦管靶

            產(chǎn)品名稱(chēng):鈦靶材,鈦旋轉(zhuǎn)靶,鈦靶管牌號(hào):TA0,TA1,TA2/GR1,GR2執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):GB/T2695-1996,ASTM B348-97用途:用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃... 【詳情】
            鈦板靶

            鈦板靶

            產(chǎn)品名稱(chēng):鈦靶材、鈦板靶、鈦靶板牌號(hào):TA0,TA1,TA2,GR1,GR2執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):GB/T2695-1996,ASTM B348-97用途:用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃... 【詳情】
            鈦多弧靶

            鈦多弧靶

            產(chǎn)品名稱(chēng):鈦靶材牌號(hào):TA0, TA1, TA2, TC4, TC6, TC11, GR5, TA7 廠家:凱澤金屬主要形式:圓靶、板靶、管靶鈦含量≥:99.8(%)雜質(zhì)含量:0.02(%)重量:不等(KG/塊)密度:4.51或4.50圓靶:60/65/70/8... 【詳情】
            鈦靶塊

            鈦靶塊

            產(chǎn)品名稱(chēng):鈦靶塊執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn): GB/T2695-1996,ASTM B348-97產(chǎn) 地:陜西寶雞材 質(zhì):Ti純 度:99.9%-99.99%晶 粒 度:<100um規(guī)格:可以按照用戶需要定制應(yīng)用領(lǐng)域:適用電子、五金、鐘表、眼鏡、... 【詳情】
            鈦靶材

            鈦靶材

            產(chǎn)品名稱(chēng):鈦靶材、鈦多弧靶, 鈦靶塊,鈦塊牌號(hào):TA0,TA1,TA2,GR1,GR2執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):GB/T2695-1996,ASTM B348-97用途:用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂... 【詳情】
            TA2鈦靶

            TA2鈦靶

            產(chǎn)品名稱(chēng):TA0鈦靶執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn): GB/T2695-1996,ASTM B348-97產(chǎn) 地:陜西寶雞材 質(zhì):Ti純 度:99.9%-99.99%晶 粒 度:<100um規(guī)格:可以按照用戶需要定制應(yīng)用領(lǐng)域:適用電子、五金、鐘表、眼鏡、... 【詳情】
            TA1鈦靶

            TA1鈦靶

            產(chǎn)品名稱(chēng):TA1鈦靶執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn): GB/T2695-1996,ASTM B348-97產(chǎn) 地:陜西寶雞材 質(zhì):Ti純 度:99.9%-99.99%晶 粒 度:<100um規(guī)格:可以按照用戶需要定制應(yīng)用領(lǐng)域:適用電子、五金、鐘表、眼鏡、... 【詳情】
            TA0鈦靶

            TA0鈦靶

            產(chǎn)品名稱(chēng):TA0鈦靶產(chǎn) 地:陜西寶雞材 質(zhì):Ti純 度:99.9%-99.99%晶 粒 度:<100um規(guī)格:可以按照用戶需要定制應(yīng)用領(lǐng)域:適用電子、五金、鐘表、眼鏡、首飾、刀具、模具、玩具、廚具、器皿... 【詳情】
            TA2鈦靶塊

            TA2鈦靶塊

            名稱(chēng):鈦靶材、鈦多弧靶, 鈦平面靶,鈦旋轉(zhuǎn)靶牌號(hào):TA0,TA1,TA2,GR1,GR2執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):GB/T2695-1996,ASTM B348-97用途:用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面... 【詳情】
            TA2/GR2鈦靶材

            TA2/GR2鈦靶材

            產(chǎn)品名稱(chēng):鈦靶材、鈦多弧靶, 鈦靶塊,鈦塊牌號(hào):TA0,TA1,TA2,GR1,GR2執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):GB/T2695-1996,ASTM B348-97用途:用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂... 【詳情】
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